Dépôt de couches minces métalliques et diélectriques
Matériaux : aluminium or silicium titane ...
alumine chrome silice tungstène
Gaz process disponibles : Ar,O²
Pulvérisation cathodique RF magnétron et évaporation par effet Joule PLASSYS de type MEP 300
Evaporation par effet joule EDWARDS de type E306A
Pulvérisation cathodique RF magnétron ALCATEL de type SCM 600
mise à jour le 10 mai 2019