Thèse Cecilia Maggioni Mezzomo

Mis à jour le 11 mars 2011

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Auteur(s) : Thèse préparée dans le laboratoire IMEP-LAHC et dans l'entreprise ST Microelectronics sous la direction de Mr Gérard GHIBAUDO

Références : LUNDI 21MARS 2011 à 10 h30 Lieu de la soutenance : AMPHITHEATRE M 001, PHELMA Minatec 3 Parvis Louis Neel Grenoble

Sources : Caractérisation et modélisation des fluctuations aléatoires des paramètres électriques des dispositifs en technologies CMOS avancées.

Date de parution : 11 mars 2011

Informations complémentaires

RESUME DE THESE:

Ce travail porte sur sur la caractérisation et la modélisation des fluctuations aléatoires des paramètres électriques des transistors MOS avancées. La structure de test utilisée est validée expérimentalement au moyen de la méthode de mesure de Kelvin. Pour comprendre le comportement des fluctuations, un modèle est d'abord proposé pour le régime linéaire. Il permet de modéliser les fluctuations de la tension de seuil des transistors avec implants de poche pour toutes les longueurs de transistor et aussi pour toute la gamme de tension de grille. Ensuite, l'appariement du courant de drain est caractérisé et modélisé en fonction de la tension de drain. Pour modéliser les caractéristiques réelles de transistors sans implants de poche, il est nécessaire de considérer la corrélation des fluctuations de la tension de seuil et celles de la mobilité. De plus, des caractérisations sur des transistors avec implants de poche montrent un nouveau comportement de l'appariement du courant de drain. Des caractérisations ont aussi été menés pour analyser l'impact des fluctuations de la rugosité de grille.

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mise à jour le 11 mars 2011

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