Gravure humide et sèche, Chimie, Activités nanomatériaux

Gravure humide :

Gravure de différents matériaux : Al, Cr, Au, SiO2, Al2O3…
Bains régulés par thermoplongeur
Travail :
- sur paillasse aspirante
- sous sorbonnes pour l'utilisation d'acides (acide Fluorhydrique et autres) et de solvants pour les nettoyages (FeNO3, remover)
Balance de pesée de précision
Bains ultrasoniques
Plaques chauffantes

Travail sous sorbonnes pour l'utilisation d'acides (acide Fluorhydrique et autres) et de solvants pour les nettoyages ( FeNO3, remover)

Gravure sèche :

Bâti de gravure RIE/ ICP Corial 200IL

Gravure de couches minces à partir de gaz fluorés, gravure de nanopilliers, gravure de résine par plamsa O2, activation de surface.
Gaz process disponibles : CHF3, SF6, C2H4, O2.

Activité nanomatériaux :

Croissance
Mise en solution
Intégration à des matrices polymères
Dépôt
Travail sous sorbonne, pyramide de terrain ou boite à gants

Autres équipements disponibles:

Etuves
Etuves sous vide
Etuve à convection forcée
Microscope optique Leica INM100 : Grossissement jusqu’à 1000, avec acquisition d’images
Centrifugeuse Semitool pour le rinçage et séchage de plaquettes.
Polisseuse pour la préparation de surfaces pour l’adhésion moléculaire.

mise à jour le 15 mai 2019

Site de Grenoble
Grenoble INP - Minatec - 3, Parvis Louis Néel , CS 50257 - 38016 Grenoble Cedex 1

Site de Chambéry
Université Savoie Mont Blanc - Rue Lac de la Thuile, Bat. 21 - 73370 Le Bourget du Lac