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Microélectronique, électromagnétisme, photonique, hyperfréquences
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Lithographie

Dépôts de résine et polymères par spin coating:

Spin coater Süss Microtec TP6000
Substrats jusqu'à 4"
Plaques chauffantes pour le recuit d’échantillons
    - Plaques chauffantes pour le recuit d’échantillons.
    - Armoire thermorégulée ATEX pour le stockage des résines et solvants




Photolithographie UV:

Source UV : h-line / 405nm et i-line / 365nm
Photolithographie UV

Photomasqueur Süss Microtec de type MA6:

Photomasqueur Sùss Microtec de type MA6  * Masque 4'' à 5"
  * Substrats jusqu'à 3''
  * Contact vide / doux / dur / proximité :
         - Résolution : 0,6 micron
         - Alignement en BSA
         - Grande précision d'alignement

 

Photomasqueur Süss Microtec de type MJB3:

Photomasqueur Sùss Microtec de type MJB3
   * Masque 4 à 5"
   * Substrats jusqu’à 3''
   * Contact vide / doux  :
           - Résolution :1 micron
           - Alignement en TSA 



 

mise à jour le 10 mai 2019

anglais
IMEP-LAHC
Site de Grenoble
Grenoble INP - Minatec : 3, Parvis Louis Néel - CS 50257 - 38016 Grenoble Cedex 1

Site de Chambéry
Université Savoie Mont Blanc - F73376 Le Bourget du Lac Cedex
 
 
  CNRS  http://www.cnrs.fr      Site Grenoble-INP http://www.grenoble-inp.fr       Université Grenoble Alpes (UGA)      Université Savoie Mont Blanc
Univ. Grenoble Alpes