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Lithographie, gravure, chimie - Grenoble INP - IMEP-LAHC

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Lithographie, gravure, chimie

Dépôts de résine et polymères sur tournette :

Spin coater Süss Microtec TP6000
  • Substrats jusqu'à 3"

Photolithographie :

     Photolithographie
Photomasqueur Süss Microtec de type MA6:
* Masque 4''
* Substrats 3''
* Contact vide / doux/ dur/ proximité
  • Résolution : 0,6 microns
    Grande précision d'alignement





     

Gravure humide :

En bain régulé par thermoplongeur

Gravure sèche :

Bati de gravure Corial 200IL
Bâti de gravure RIE/ ICP Corial 200IL
Gravures fluorées , plasma O2











Traitement  thermique :

Etuve avec maintien sous vide ou sous atmosphère contrôlée en azote

Chimie :

Sorbonnes pour l'utilisation d'acides (acide Fluorhydrique et autres) et de solvants pour les nettoyages ( FeNO3, remover)

Activité nanomatériaux :

CNT, nanobilles d'or, nanofils SiC ...
Mise en solution , dépôt, croissance ...
 
IMEP-LAHC - UMR 5130
Site Grenoble
Grenoble INP - Minatec : 3, Parvis Louis Néel - CS 50257 - 38016 Grenoble Cedex 1

Site Chambéry
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