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Plateforme IMEP-LaHC - Grenoble INP - IMEP-LAHC

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CEP : Caractérisation Electrique et Physique

Caractérisation sous pointes de transistors

Grâce à un ensemble d'équipements scientifiques performants, l'IMEP-LaHC possède des compétences dans  les mesures permettant l'étude intrinsèque des composants électroniques avancés ainsi que de leurs matériaux et technologies.

Contact :Xavier MESCOT
HOC : Hyperfréquences , Optomicrondes et CEM

Test sous pointes hyperfréquences  à 110Ghz
Cette plate-forme regroupe sur les deux sites de Grenoble et du Bourget-du-Lac  l'ensemble des équipements communs de caractérisation Hyperfréquences, Optomicroondes et de CEM du laboratoire. Des moyens expérimentaux performants sont mis à la disposition des chercheurs pour la caractérisation sous pointes et coaxiale jusqu'à 110GHz, pour la mise en œuvre des intéractions optique-microondes dans les systèmes de télécommunication innovants et enfin pour l'étude des phénomènes de rayonnement électromagnétique.

Contact : Magali ASTIC et  Nicolas CORRAO
PHOTONIQUE

Ban de mesure Gain - Perte
Après leur réalisation sur la plateforme  fabrication composants , les puces d'optique intégrée doivent être caractérisées minutieusement.
Etant destiné aux domaines des télécommunications et des capteurs, les performances de ces puces optiques doivent être mesurées le plus précisément possible.
Pour cela, l'IMEP dispose de 9 salles noires équipées du meilleur matériels pour réaliser ces mesures:
 micro positionneurs à déplacement,
 analyseurs de spectres optiques,
 analyseurs de polarisation,
 caméra infrarouge, etc....

Contact : Gregory GROSA
Plateforme Technologique

Préparattion d'échantillons en salle blanche
La fabrication de composants se fait au sein des 450m² de salle blanche installés sur le site Minatec.
Nos moyens technologiques disponibles sont ceux couramment utilisés dans les procédés de microélectronique :des bâtis de dépôts de couches minces diélectriques et métalliques par pulvérisation cathodique RF ou par évaporation Effet Joule, des équipements de photolithographie (tournette, photomasqueur, gravure) avec des motifs allant jusqu’à 0,6 microns ainsi que des moyens de gravure sèche ou humique.
Par ailleurs, le laboratoire a développé depuis de nombreuses années une technologie d'optique intégrée sur verre basée sur des procédés d'échanges ioniques dans des fours de diffusion et d'enterrage assisté sous champ électrique.

Contact : Aude BOUCHARD
 
IMEP-LAHC - UMR 5130
Site Grenoble
Grenoble INP - Minatec : 3, Parvis Louis Néel - CS 50257 - 38016 Grenoble Cedex 1

Site Chambéry
Université de Savoie - F73376 Le Bourget du Lac Cedex Copyright Grenoble INP