Spin coater Süss Microtec TP6000
Substrats jusqu'à 4"
- Plaques chauffantes pour le recuit d’échantillons.
- Armoire thermorégulée ATEX pour le stockage des résines et solvants
Photolithographie UV:
Source UV : h-line / 405nm et i-line / 365nm
Photomasqueur Süss Microtec de type MA6:
* Masque 4'' à 5"
* Substrats jusqu'à 3''
* Contact vide / doux / dur / proximité :
- Résolution : 0,6 micron
- Alignement en BSA
- Grande précision d'alignement